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植酸在铜基表面缓蚀性能电化学研究
引用本文:顾玮婧, 王莉燕, 王馨迪, 范士杰, 张燕, 杨海峰.植酸在铜基表面缓蚀性能电化学研究[J].上海师范大学学报(自然科学版),2009,38(5):501-505.
作者姓名:顾玮婧  王莉燕  王馨迪  范士杰  张燕  杨海峰
作者单位:上海师范大学,生命与环境科学学院,上海,200234
基金项目:上海市大学生创新活动计划项目 
摘    要:报道了将对环境友好的植酸化合物自组装修饰于铜基电极表面,进行了电化学极化曲线实验,获得了最佳组装实验条件.实验证明:植酸在较低浓度下组装,对于纯铜与黄铜均提高了缓蚀性能,尤其对于合金如黄铜成效显著.同时,在腐蚀液环境中,经交流阻抗分析,解析了植酸组装层的缓蚀机理.

关 键 词:植酸  铜基电极  极化曲线  交流阻抗  缓蚀性能

The corrosion inhibition study of phytic acid on different copper surface by electrochemistry
GU Wei-jing,WANG Li-yan,WANG Xin-di,FAN Shi-jie,ZHANG Yan,YANG Hai-feng.The corrosion inhibition study of phytic acid on different copper surface by electrochemistry[J].Journal of Shanghai Normal University(Natural Sciences),2009,38(5):501-505.
Authors:GU Wei-jing  WANG Li-yan  WANG Xin-di  FAN Shi-jie  ZHANG Yan  YANG Hai-feng
Abstract:
Keywords:
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