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不同退火温度下ZnO薄膜表面形貌的演变及粗化机制
引用本文:刘莎,史雅琴.不同退火温度下ZnO薄膜表面形貌的演变及粗化机制[J].大连海事大学学报(自然科学版),2006,32(2):101-105.
作者姓名:刘莎  史雅琴
作者单位:大连海事大学机电与材料工程学院 辽宁大连116026
摘    要:采用磁控溅射方法在Si(001)制备ZnO薄膜,利用原子力显微镜对不同退火温度的ZnO薄膜表面形貌进行表征.结果表明:薄膜的微观形貌、表面粗糙度和分形维数取决于退火温度的变化.在退火温度从室温上升到1000℃过程中,薄膜表面粗糙度逐渐降低,700℃降至最小,而后又迅速粗糙.探讨了不同退火温度下薄膜表面的粗糙机理.

关 键 词:ZnO薄膜  磁控溅射  表面形貌  功率谱密度  分形维数
文章编号:1006-7736(2006)02-0101-05
收稿时间:2006-01-03
修稿时间:2006年1月3日

Evolution and coarsening mechanism of surface morphology of ZnO film at different annealed temperatures
LIU Sha,SHI Ya-qin.Evolution and coarsening mechanism of surface morphology of ZnO film at different annealed temperatures[J].Journal of Dalian Maritime University,2006,32(2):101-105.
Authors:LIU Sha  SHI Ya-qin
Abstract:
Keywords:ZnO film  magnetron sputting  surface morphology  power spectrum density  fractal dimension
本文献已被 CNKI 维普 万方数据 等数据库收录!
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