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低温生长金刚石薄膜及其界面结构X—射线衍射研究
引用本文:吕反修,蒋高松.低温生长金刚石薄膜及其界面结构X—射线衍射研究[J].北京科技大学学报,1992,14(4):423-429.
作者姓名:吕反修  蒋高松
作者单位:北京科技大学材料科学与工程系 (吕反修,蒋高松),北京科技大学材料科学与工程系(杨保雄)
摘    要:

关 键 词:金刚石薄膜  界面  X-射线  衍射  薄膜

X-Ray Diffraction Study of the Interface Layer of Low Temperature Deposited Diamond Films
Lu Fanxiu Jiang Gaosong Yang Baoxiong.X-Ray Diffraction Study of the Interface Layer of Low Temperature Deposited Diamond Films[J].Journal of University of Science and Technology Beijing,1992,14(4):423-429.
Authors:Lu Fanxiu Jiang Gaosong Yang Baoxiong
Institution:Lu Fanxiu Jiang Gaosong Yang Baoxiong Department of Materials Science and Engineering
Abstract:
Keywords:diamond films  low temperature deposition  iaterface layer  X-ray diffraction
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