首页 | 本学科首页   官方微博 | 高级检索  
     检索      

大面积金刚石膜的均匀沉积
引用本文:黄天斌,刘敬明,唐伟忠,钟国仿,蒋政,吕反修.大面积金刚石膜的均匀沉积[J].北京科技大学学报,2000,22(5):467-469.
作者姓名:黄天斌  刘敬明  唐伟忠  钟国仿  蒋政  吕反修
作者单位:北京科技大学材料科学与工程学院,北京,100083
基金项目:国家高技术研究发展计划(863计划);715-002-Z030;
摘    要:研究了大面积金刚石膜沉积过程中的均匀性问题和金刚石膜质量的均匀性问题,研究了表明:用于生长金刚石的大面积磁旋转等离子体电弧是均匀的,能使气体混合均匀;金刚石膜在形核阶段是均匀的;金刚石膜在生长阶段是均匀的,有利于提高成膜几率;沉积后的金刚石膜的质量是均匀的,大面积磁控长通道等离子矩能生长均匀的金刚石膜,可用于金刚石膜的研究和工业生产。

关 键 词:金刚石膜  均匀沉积  制备  薄膜技术

Uniformity of Large Area Diamond Films
HUANG Tianbin,LIU Jingming,TANG Weizhong,ZHONG Guofang,JIANG Zheng,LU Fanxiu.Uniformity of Large Area Diamond Films[J].Journal of University of Science and Technology Beijing,2000,22(5):467-469.
Authors:HUANG Tianbin  LIU Jingming  TANG Weizhong  ZHONG Guofang  JIANG Zheng  LU Fanxiu
Abstract:The uniformity of large area diamond filrns in deposition process and quality of diamond films is researched. The results show tha the DC arc used for deposition of diamond films is uniform. Diaxnond films are uniform in the process of nucleation and the growh. The quslity of large area diamond films is uniform.
Keywords:large area  diamond films  uniformity
本文献已被 CNKI 维普 万方数据 等数据库收录!
设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司  京ICP备09084417号