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直流等离子体喷射镀膜设备的传热数学模型
引用本文:陈旭宏,赵立合,吕反修.直流等离子体喷射镀膜设备的传热数学模型[J].北京科技大学学报,1999,21(1):67-71.
作者姓名:陈旭宏  赵立合  吕反修
作者单位:1. 北京科技大学机械工程学院,北京,100083
2. 北京科技大学材料科学与工程学院,北京100083
基金项目:国家高技术研究发展计划(863计划) 
摘    要:介绍了对直流等离子体喷射镀膜设备中传热过程所进行的理论和实验研究,探讨影响上述复杂传热过程的各种因素的影响规律及各种因素之间的相互关系,以及对有效控制金刚石膜形成的影响程度。在理论研究的基础上,建立了射流温度分布以及辐射、导热及基片热平衡等5组数学模型,并进行了编程计算,计算结果与实验结果对比,证明两者吻合很好。

关 键 词:真空  等离子弧  传热

Mathematical Model of Heat Transfer in an Apparatus Used to Coated Film by Direct Current Plasma Jet
Chen Xuhong,Zhao Lihe,Lv Fanxiu.Mathematical Model of Heat Transfer in an Apparatus Used to Coated Film by Direct Current Plasma Jet[J].Journal of University of Science and Technology Beijing,1999,21(1):67-71.
Authors:Chen Xuhong  Zhao Lihe  Lv Fanxiu
Abstract:
Keywords:vacuum  plasma impact  heat transfer
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