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ITO薄膜的光学和电学性质及其应用
引用本文:马勇,孔春阳.ITO薄膜的光学和电学性质及其应用[J].重庆大学学报(自然科学版),2002,25(8):114-117.
作者姓名:马勇  孔春阳
作者单位:重庆师范学院物理系 重庆400047 (马勇),重庆师范学院物理系 重庆400047(孔春阳)
摘    要:介绍了氧化铟锡(ITO)薄膜的光学和电学性质及应用。优化的ITO薄膜有立方铁锰矿结构。掺杂的Sn替代In2O3晶格上的In原子,每个Sn原子可以看作给导带提供一个自由电子。ITO薄膜载流子浓度为-10^20cm^-3,电阻率为-10^-4Ωcm,是高度简并半导体,其能带为抛物线型结构。由于Burstein-Moss效应,光学能隙加宽。除了紫外带间吸收和远红外的声子吸收,Brude理论与ITO的介电常数实际值符合得很好,说明自由电子对ITO薄膜的光学性质有决定性作用。由于ITO薄膜优异的光学和电学特性使它日益获得广泛应用。

关 键 词:ITO薄膜  结构  能带  电学性质  氧化铟锡薄膜  光学性质
文章编号:1000-582X(2002)08-0114-04
修稿时间:2002年4月20日

Electrical and Optical Properties and Applications of In_2O_3:Sn (ITO) Films
MA Yong,KONG Chun yang.Electrical and Optical Properties and Applications of In_2O_3:Sn (ITO) Films[J].Journal of Chongqing University(Natural Science Edition),2002,25(8):114-117.
Authors:MA Yong  KONG Chun yang
Abstract:
Keywords:indium tin oxide films  crystalline structure  energy band  electrical and optical properties
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