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| 热处理调控氧化石墨烯薄膜层间距与离子筛分 | |
| 引用本文： | 林玲鑫,刘畅,马鹏飞,曹留烜.热处理调控氧化石墨烯薄膜层间距与离子筛分[J].厦门大学学报(自然科学版),2022(1):42-48. |
| 作者姓名： | 林玲鑫 刘畅 马鹏飞 曹留烜 |
| 作者单位： | 厦门大学能源学院 |
| 摘 要： | 采用热处理方法,通过改变热处理时间和温度来调控氧化石墨烯(GO)薄膜的层间距,并考察了Cs~+、K~+、Na~+、Li~+、Sr2+、Mg2+和Al3+离子在不同层间距的GO薄膜中的渗透性.结果发现:热处理后得到的GO薄膜在湿润状态下的层间距范围为0.57～1.31 nm,当薄膜层间距在0.55 nm左右时,水分子很难在薄膜中输运;此外,在不同层间距的GO薄膜中离子渗透性除了与离子水合直径有关之外,还与离子所带电荷以及离子脱水作用有关.该方法实现了Li~+/Mg2+和Na~+/Sr2+的分离,为离子的精确筛分、促进如盐湖提锂以及核废液处理等提供了参考. |
| 关 键 词： | 氧化石墨烯薄膜 层间距 热处理 离子渗透 |