| 电化学沉积研究 |
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| 引用本文： | 杨防祖,姚士冰,周绍民.电化学沉积研究[J].厦门大学学报(自然科学版),2001,40(2):418-426. |
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| 作者姓名： | 杨防祖 姚士冰 周绍民 |
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| 作者单位： | 厦门大学化学系物理化学研究所, |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金(20073037，29773039)、优秀国家重点实验室基金和福建省自然科学基金(E0010005)资助项目 |
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| 摘 要： | 概述了电化学沉积研究的发展现状。介绍了本科研组在电化学沉积和电结晶机理，络合剂和添加剂在沉积过程中的作用，电化学沉积新工艺和研究方法，以及镀层微观结构与性能的关系等方面的主要研究结果。
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| 关 键 词： | 电化学沉积 电结晶机理 络合剂 添加剂 防护－装饰性镀层 合金镀层 微观结构 |
| 文章编号： | 0438-0479(2001)02-0418-09 |
| 修稿时间： | 2001年2月15日 |
Studies on the Electrochemical Deposition |
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| YANG Fang-zu,YAO Shi-bing,ZHOU Shao-min.Studies on the Electrochemical Deposition[J].Journal of Xiamen University(Natural Science),2001,40(2):418-426. |
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| Authors: | YANG Fang-zu YAO Shi-bing ZHOU Shao-min |
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| Abstract: | Developments and current situation on the studies on electrochemical deposition were outlined. The main investigation achievements from our reserching group were introduced in the aspects such as mechanisms of electrochemical deposition and electrocrytallization, actions of complexing agents and additives on deposition, novel processes and investigation skills on electrochemical deposition and the relationships between microstructure and properties of deposits, etc. |
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| Keywords: | electrochemical deposition electrocrystallization structure and properties of deposits |
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