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MEMS器件真空回流焊接工艺研究
引用本文:薛中会,关荣锋.MEMS器件真空回流焊接工艺研究[J].河南大学学报(自然科学版),2008,38(3):235-238.
作者姓名:薛中会  关荣锋
作者单位:河南理工大学,河南,焦作,454002
基金项目:国家高技术研究发展计划(863计划) , 河南省科技攻关项目
摘    要:选择80Au20Sn合金预制焊料,在多功能键合设备中研究了MEMS器件陶瓷外壳真空回流焊接工艺.通过多次工艺实验,获得了真空回流焊接工艺的优化参数:焊接温度为340-350℃,保温时间约5-10 min,施加在每个焊接外壳上的压力约为60-80g.对封装外壳焊接质量进行了分析,并指出影响焊接质量的各种因数和获得良好焊接质量的方法.最后,将陶瓷外壳真空回流焊接工艺用于陀螺仪的真空封装,使陀螺仪的品质因子相对大气环境提高了15倍.

关 键 词:MEMS  真空封装  陶瓷外壳  回流焊接工艺
文章编号:1003-4978(2008)03-0235-04
修稿时间:2007年9月16日

Research on Vacuum Reflow Packaging Process for MEMS Device
XUE Zhong-hui,GUAN Rong-feng.Research on Vacuum Reflow Packaging Process for MEMS Device[J].Journal of Henan University(Natural Science),2008,38(3):235-238.
Authors:XUE Zhong-hui  GUAN Rong-feng
Abstract:
Keywords:
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