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实验设计与模拟相结合用于IC优化设计的TCAD工具
引用本文:甘学温,杜刚,肖志广.实验设计与模拟相结合用于IC优化设计的TCAD工具[J].北京大学学报(自然科学版),2002,38(5):713-718.
作者姓名:甘学温  杜刚  肖志广
作者单位:北京大学微电子学研究所,北京,100871
摘    要:鉴于PC机广泛普及和使用方便,在PC机上建立起实验设计与模拟相结合用于IC优化设计的TCAD工具.利用已有的工艺模拟软件SUPREM、器件模拟软件MINIMOS及电路模拟软件PSPICE,完成了响应表面拟合、SPICE模型参数提取及数据转换等程序,形成一个可以进行工艺、器件及电路分析和优化设计的TCAD工具,并用于研究实验设计方法在IC优化设计中的应用.

关 键 词:实验设计  响应表面  优化设计  TCAD工具

A TCAD Tool of DOE Combining with Simulation for IC Optimization Design
GAN Xuewen,DU Gang XIAO Zhiguang.A TCAD Tool of DOE Combining with Simulation for IC Optimization Design[J].Acta Scientiarum Naturalium Universitatis Pekinensis,2002,38(5):713-718.
Authors:GAN Xuewen  DU Gang XIAO Zhiguang
Abstract:A TCAD tool of DOE(Design of Experiment) combining with simulations for IC optimization design was implemented on a PC,some simulation software such as SUPREM,MINIMOS and PSPICE were utilized.The programs for fitting response surface,extracting SPICE model parameters and converting data files were completed.The application of DOE on IC optimization design was studied using the TCAD tool.
Keywords:DOE  response surface  optimization design  TCAD tool
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