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单根In掺杂的n-ZnO纳米线/p+-Si异质结的紫外电致发光
引用本文:霍海滨,杨卫全,戴伦,马仁敏,秦国刚.单根In掺杂的n-ZnO纳米线/p+-Si异质结的紫外电致发光[J].北京大学学报(自然科学版),2008,44(3).
作者姓名:霍海滨  杨卫全  戴伦  马仁敏  秦国刚
作者单位:1. 北京大学物理学院,北京,100871
2. 北京大学物理学院,北京,100871;介观物理国家重点实验室,北京,100871
基金项目:国家重点基础研究发展计划(973计划),国家自然科学基金
摘    要:采用化学气相沉积的方法在In0.1Ga0.9N衬底上生长出In掺杂的n-ZnO纳米线阵列.电学输运测量得到单根n-ZnO纳米线的电阻率为0.001 Ω cm,比同样方法在GaN衬底上生长的ZnO纳米线低约20倍.这个结果表明来自于In0.1Ga0.9N衬底中的In原子在高温生长过程中可能被掺入ZnO纳米线.制备成功单根n-ZnO纳米线/p -Si异质结构并研究了其电致发光特性.室温下电致发光光谱中可以看到一个窄的ZnO激子峰(约380 nm)和一个中心位于700 nm 的来自Si衬底表面自然氧化硅发光中心的发光峰.

关 键 词:电致发光  氧化锌纳米线    异质结

Ultraviolet Electroluminescence from In Doped n-ZnO Single-Nanowire/p+-Si Heterostructures
HUO Haibin,YANG Weiquan,DAI Lun,MA Renmin,QIN Guogang.Ultraviolet Electroluminescence from In Doped n-ZnO Single-Nanowire/p+-Si Heterostructures[J].Acta Scientiarum Naturalium Universitatis Pekinensis,2008,44(3).
Authors:HUO Haibin  YANG Weiquan  DAI Lun  MA Renmin  QIN Guogang
Abstract:
Keywords:electroluminescence  ZnO single nanowire  silicon  heterostructure
本文献已被 CNKI 万方数据 等数据库收录!
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