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退火温度对TiO2薄膜光学性能的影响
引用本文:侯亚奇,庄大明,张弓,赵明,吴敏生.退火温度对TiO2薄膜光学性能的影响[J].清华大学学报(自然科学版),2003,43(11):1441-1443.
作者姓名:侯亚奇  庄大明  张弓  赵明  吴敏生
作者单位:清华大学,机械工程系,北京,100084
基金项目:国家教育振兴计划资助项目
摘    要:为确定合适的TiO2薄膜退火工艺,研究了退火温度对采用中频交流反应磁控溅射技术制备的TiO2薄膜光学性能的影响.利用分光光度计测得石英玻璃基体TiO2薄膜试样的透射谱和反射谱,用包络线法和经验公式法计算出薄膜的光学常数.结果表明 TiO2薄膜的折射率随退火温度的上升而增加,低温退火时薄膜消光系数略有减小, 500 ℃退火时TiO2薄膜具有最优的光学性能.

关 键 词:薄膜光学    TiO2薄膜    中频交流磁控溅射    退火
文章编号:1000-0054(2003)11-1441-03
修稿时间:2002年12月4日

Influence of annealing temperature on optical properties of titanium oxide thin films
Abstract:
Keywords:thin  film optics  titanium oxide thin film  mid-frequency AC magnetron sputtering  annealing
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