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| 在钛酸锶钡体材上溅射厚铜膜工艺 | |
| 引用本文： | 张晔,解启林,朱启政.在钛酸锶钡体材上溅射厚铜膜工艺[J].科技资讯,2007(22):16-17. |
| 作者姓名： | 张晔 解启林 朱启政 |
| 作者单位： | 中国电子科技集团公司第38研究所,安徽合肥,230031 |
| 摘 要： | 本文采用磁控溅射的方法在钛酸锶钡材料上涂覆金属铜膜.文章详细论述了溅射金属铜膜的工艺参数,并就这些参数对所镀膜层表面质量、附着性能和膜均匀性的影响进行了分析,指出了获得优良的厚铜膜层的实现途径和方法. |
| 关 键 词： | 钛酸锶钡 磁控溅射 厚铜膜 |
| 文章编号： | 1672-3791(2007)08(a)-0016-02 |
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