| 溅射功率对 ZnO ∶Mn 薄膜结构、应力和光电性能的影响 |
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| 引用本文： | 臧永丽,刘景伦.溅射功率对 ZnO ∶Mn 薄膜结构、应力和光电性能的影响[J].菏泽学院学报,2015(2). |
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| 作者姓名： | 臧永丽 刘景伦 |
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| 作者单位： | 1. 山东理工大学理学院,山东淄博,255049
2. 菏泽学院物理与电子工程系,山东菏泽,274015 |
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| 摘 要： | 利用直流磁控溅射法，在玻璃衬底上制备掺锰氧化锌（ZnO ∶Mn）透明导电薄膜．研究了溅射功率对薄膜结构、力学性能和光电性能的影响．功率对薄膜应力影响不是很大，且应力均为负值，表现为压应力．溅射功率通过改变晶粒尺寸和结晶程度而影响薄膜的导电性能：当溅射功率为135 W 时，薄膜的电阻率具有最小值为1．10×10－2Ω·cm．实验表明，功率是影响 ZnO ∶Mn 薄膜性能的一个重要参量．
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| 关 键 词： | ZnO∶Mn 薄膜 透明导电薄膜 磁控溅射 溅射功率 |
Effect of the Sputtering Power on the Structure,Stress and the Photoelectric Property of ZnO ∶Mn Films |
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| ZANG Yong-li,LIU Jing-lun.Effect of the Sputtering Power on the Structure,Stress and the Photoelectric Property of ZnO ∶Mn Films[J].Journal of Heze University,2015(2). |
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| Authors: | ZANG Yong-li LIU Jing-lun |
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| Keywords: | ZnO ∶Mn films transparent conductive films magnetron sputtering sputtering power |
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