| V2O5薄膜的超声喷雾制备及其性能研究 |
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| 引用本文： | 黄岳文,羊亿,李华维,刘敏,罗友良.V2O5薄膜的超声喷雾制备及其性能研究[J].邵阳学院学报(自然科学版),2006,3(2):23-26. |
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| 作者姓名： | 黄岳文 羊亿 李华维 刘敏 罗友良 |
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| 作者单位： | 湖南师范大学物理与信息学院,湖南,长沙,410081 |
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| 基金项目： | 教育部留学回国人员科研启动基金;湖南省教育厅青年基金 |
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| 摘 要： | 采用超声喷雾法在玻璃衬底上制备了V2O5薄膜，研究了超声沉积参数对V2O5薄膜微结构以及薄膜晶化生长过程的影响．利用X射线衍射仪（XRD）扫描电子显微镜（SEM）分光光度计和电阻测量等手段对薄膜的晶相结构表面形貌和性能进行了分析．XRD结果表明：V2O5薄膜为斜方晶系结构，当衬底温度（Ts）小于215℃时，沉积的薄膜为非晶态；当Ts≥215℃时，V2O5薄膜开始形成微晶结构，而且随着衬底温度上升，薄膜的择优取向由（001）方向向（110）方向发生了转变．SEM图谱显示了V2O5薄膜的沉积生长过程．当V2O5薄膜温度从室温升高至380℃时，薄膜电阻变化了将近2个数量级；该方法制备的V2O5薄膜光学能隙Eg=2．25eV．
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| 关 键 词： | V2O5薄膜 斜方晶系 超声喷雾 光电性能 |
| 文章编号： | 1672-7010（2006）02-0023-04 |
| 收稿时间： | 2006-02-10 |
| 修稿时间： | 2006年2月10日 |
V2O5 Thin Films Prepared by Ultrasonic Spray Deposition Method and Their Properties |
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| HUANG Yue-wen,YANG Yi,LI Hua-wei,LIU Min,LUO You-liang.V2O5 Thin Films Prepared by Ultrasonic Spray Deposition Method and Their Properties[J].Journal of Shaoyang University:Science and Technology,2006,3(2):23-26. |
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| Authors: | HUANG Yue-wen YANG Yi LI Hua-wei LIU Min LUO You-liang |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | Vanadium pentoxide thin films Orthorhombic system Ultrasonic spray Optical and electrical properties |
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