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外应力场下铁磁薄膜共振性质的理论研究
引用本文:李娟娟,云国宏.外应力场下铁磁薄膜共振性质的理论研究[J].内蒙古大学学报(自然科学版),2008,39(3):275-280.
作者姓名:李娟娟  云国宏
作者单位:内蒙古大学物理科学与技术学院,呼和浩特,010021
基金项目:国家自然科学基金 , 教育部跨世纪优秀人才培养计划 , 教育部科学技术研究重点项目
摘    要:根据Smith和Beljers理论方法研究了磁性薄膜在应力场作用下的铁磁共振性质.该模型选取各向同性的磁性薄膜,给出了外应力场在垂直薄膜的平面内变化时对铁磁共振性质的影响.结果表明:当外磁场处于应力场所在的平面内时,外应力的大小及方向均会影响薄膜的难易磁化轴方向.但是当外磁场处于薄膜所在的平面内时,薄膜的难易磁化轴方向则不受外应力场的影响.当应力场与外磁场均垂直膜面时,如果应力场小于某一值(4πM/3)时,共振频率在低磁场区会出现恒等于零的情况,如果应力场大于这一值时,共振频率的值会在临界场处发生突变.此外,还发现外应力的大小及其方向对于临界场和饱和场的值有着很大的影响.

关 键 词:铁磁薄膜  铁磁共振  易磁化轴  应力场
文章编号:1000-1638(2008)03-0275-06
修稿时间:2007年8月21日

Ferromagnetic Resonance of a Thin Ferromagnetic Film under a Stress Field
LI Juan-juan,YUN Guo-hong.Ferromagnetic Resonance of a Thin Ferromagnetic Film under a Stress Field[J].Acta Scientiarum Naturalium Universitatis Neimongol,2008,39(3):275-280.
Authors:LI Juan-juan  YUN Guo-hong
Abstract:
Keywords:
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