| 纳米ZnO薄膜的制备 |
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| 引用本文： | 宋淑芳,李健,季秉厚.纳米ZnO薄膜的制备[J].内蒙古大学学报(自然科学版),2001,32(5):504-507. |
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| 作者姓名： | 宋淑芳 李健 季秉厚 |
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| 作者单位： | 内蒙古大学理工学院物理系 |
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| 基金项目： | “九五”国家重点攻关科技项目 96-A1 7 |
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| 摘 要： | 采用真空气相沉积法，使用两种蒸发源制备纳米ZnO薄膜，用XRD（X射线衍射）进行测试并进行其结构特性分析。研究发现，蒸发源为分析纯Zn粉末时，蒸发可获得纳米Zn薄膜，薄膜在氧气气氛下同时进行氧化及热处理。实验发现，当温度高于400℃，得到沿c轴择优取向的纳米ZnO薄膜，蒸发源为分析纯ZnO粉末时，采用钼舟加热，高温下ZnO与钼舟发生反应，使部分ZnO还原为Zn，因此这种方法不适合纳米ZnO薄膜的制备。
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| 关 键 词： | 纳米ZnO薄膜 真空气相沉积 制备 纳米技术 氧化锌薄膜 热处理 蒸发源 |
| 文章编号： | 1000-1638(2001)05-0504-04 |
| 修稿时间： | 2000年9月1日 |
The Preparation of Nano-ZnO Thin Films |
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| SONG Shufang,LI Jian,JI BING hou.The Preparation of Nano-ZnO Thin Films[J].Acta Scientiarum Naturalium Universitatis Neimongol,2001,32(5):504-507. |
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| Authors: | SONG Shufang LI Jian JI BING hou |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | ZnO thin films Nano vacuum vapor deposition preparation |
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