| 分子印章法DNA芯片合成(Ⅲ)——反应条件的优化 |
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| 引用本文： | 肖鹏峰,陆祖宏,刘正春,贺全国,何农跃.分子印章法DNA芯片合成(Ⅲ)——反应条件的优化[J].科学通报,2002,47(3):189-192. |
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| 作者姓名： | 肖鹏峰 陆祖宏 刘正春 贺全国 何农跃 |
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| 作者单位： | 东南学分子与生物分子电子学教育部重点实验室,南京,210096 |
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| 摘 要： | 对分子印章法制备寡核苷酸微阵列芯片的工艺条件进行了探索.研究了对寡核苷酸压印偶联反应影响较大的3个因素核酸反应液反应活性的稳定性、点阵上不同核酸单体残留物的交叉污染和封闭反应对寡核苷酸微阵列杂交结果的影响.实验研究表明,在氩气保护(水和氧含量低于5×10-6)下四和核苷酸单体的乙腈混合液的反应活性可保持10 h以上.采用了一种含羟基小分子的液体对压印偶联反应后的芯片进行处理,成功地清除了芯片上大量剩余的活性核酸单体分子,解决了它们对临近点阵可能产生的污染问题.最后指出了在寡核苷酸微阵列制备过程中可以舍弃通常DNA固相合成工艺中的封闭反应步骤,有效地提高了DNA芯片的制备效率.上述研究表明分子印章法制备寡核苷酸微阵列芯片不仅可行,而且经济.
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| 关 键 词： | 寡核苷酸微阵列 核酸化学合成 分子印章法 DNA芯片 基因芯片 固相合成 |
| 收稿时间： | 2001-08-01 |
| 修稿时间： | 2001年8月1日 |
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