| 银纳米线网络的高有序排列及其图案化设计 |
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| 引用本文： | 吴泽磊,陈桂南,王贵欣,叶萃,潘军,叶长辉.银纳米线网络的高有序排列及其图案化设计[J].科学通报,2020,65(14):1376-1386. |
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| 作者姓名： | 吴泽磊 陈桂南 王贵欣 叶萃 潘军 叶长辉 |
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| 作者单位： | 浙江工业大学材料科学与工程学院,杭州310014;浙江工业大学材料科学与工程学院,杭州310014;浙江工业大学材料科学与工程学院,杭州310014;浙江工业大学材料科学与工程学院,杭州310014;浙江工业大学材料科学与工程学院,杭州310014;浙江工业大学材料科学与工程学院,杭州310014 |
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| 摘 要： | 银纳米线的有序排列及图案化,是制备柔性触控感知单元结构的关键步骤,也是银纳米线透明导电薄膜实际应用的最具挑战性的难题之一.传统的银纳米线有序化具有涂布速度慢、流体动力小、有序化程度不高等缺点.本研究使用0.4 wt%超细银纳米线(直径20 nm)的乙醇溶液在快涂布速度下(60 mm/s)制备了有序化程度高达0.82的银纳米线透明导电薄膜.银纳米线网络的超高有序化归因于毛细管作用力和流体动力的大幅度增加.在有序化银纳米线网络结构的基础上,利用常规光刻法和湿法刻蚀制备导电通道,通道宽度范围为20～500μm,精度高达99%以上,为其在可拉伸电极中的实际应用提供了参考.
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| 关 键 词： | 银纳米线 透明导电薄膜 有序排列 图案化 |
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