| 铁电(Pb_(0.925)La_(0.075))(Zr_(0.65)Ti_(0.35))_(0.981)O_3薄膜的疲劳特性研究 |
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| 引用本文： | 黄龙波.铁电(Pb_(0.925)La_(0.075))(Zr_(0.65)Ti_(0.35))_(0.981)O_3薄膜的疲劳特性研究[J].科学通报,1995,40(5):469-469. |
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| 作者姓名： | 黄龙波 |
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| 作者单位： | 华中理工大学固体电子学系 武汉430074
(黄龙波，李佐宜，刘兴阶，缪向水)，华中理工大学固体电子学系 武汉430074(卢德新) |
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| 基金项目： | 国家“八六三”计划资助项目 |
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| 摘 要： | 铁电薄膜(BaLiO_3,PbLiO_3,(Pb_(1-x)La_x)(Zr_yLi_(1-y))_(1-x/4)O_3(PLZL_x/y/(1-y)),LiNbO_3,Bi_4Li_3O_12等)在近20年来由于其在电、光学上的大量应用而被广泛地研究,尤其是铁电薄膜存储器综合了半导体存储器与磁存储器的优点,具有高速度、高密度、非挥发性和极好的抗辐射性等特点,并能与半导体工艺相兼容,是国际上研究的热门领域.这些应用都需要高质量的铁电薄膜,许多薄膜制备技术,如纪光闪蒸、溅射、外延沉积、化学蒸发沉积和sol-gel方法等,已被用于在各种衬底上制备铁电薄膜.
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| 关 键 词： | 铁电薄膜 疲劳特性 射频磁控溅射 PLZT 薄膜 |
| 收稿时间： | 1994-04-25 |
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