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| 溅射时间对γ′-Fe_4N薄膜的磁性影响 | |
| 引用本文： | 支文,宫杰.溅射时间对γ′-Fe_4N薄膜的磁性影响[J].长春大学学报,2007(8). |
| 作者姓名： | 支文 宫杰 |
| 作者单位： | 长春大学理学院 吉林长春130022 |
| 基金项目： | 吉林省科技厅科技基金资助项目(10647104) |
| 摘 要： | 采用直流磁控溅射方法,以Ar/N2作为放电气体(N2/(Ar N2)=10%),在玻璃衬底上于不同溅射时间获得了γ′-Fe4N单相薄膜。利用X射线衍射(XRD)和超导量子干涉仪(SQUID)研究了溅射时间对薄膜的生长及磁性性能的影响。结果表明薄膜样品明显沿γ′-Fe4N(111)晶面择优取向进行生长,其(111)晶面平行于样品的膜面。随溅射时间的增加,薄膜样品的晶粒尺寸没有明显的变化,薄膜厚度和矫顽力随溅射时间的增加而显著增大。 |
| 关 键 词： | γ-′Fe4N薄膜 饱和磁化强度 矫顽力 |
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