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| 钼掺杂氧化锌薄膜的制备及其性能研究 | |
| 作者单位： | ;1.中南民族大学实验教学与实验室管理中心;2.中南民族大学电子信息工程学院 |
| 摘 要： | 采用掺氧化钼(MoO_3)的氧化锌(ZnO)陶瓷靶作为溅射源材料,利用磁控溅射工艺制备了钼掺杂氧化锌(MZO)透明导电氧化物(TCO)薄膜,通过X-射线衍射仪(XRD)、光分光光度计和四探针仪进行了测试表征,研究了溅射功率对MZO薄膜结构、光学和电学性能的影响.结果表明:所沉积的MZO薄膜样品均为六角纤锌矿结构,并具有(002)择优取向生长特性,溅射功率对薄膜结构和光电性能具有不同程度的影响.当溅射功率为120 W时,MZO薄膜的可见光区平均透过率最高、电阻率最低、性能指数最大,具有最好的光电综合性能. |
| 关 键 词： | 掺杂氧化锌 薄膜 结构 光电性能 |
Preparation and Properties of Mo-Doped ZnO Thin Films Prepared by Magnetron Sputtering |
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