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快速生长金刚石薄膜的装置及其工作性能
引用本文:白亦真,吕宪义,金曾孙,邹广田. 快速生长金刚石薄膜的装置及其工作性能[J]. 吉林大学学报(理学版), 1992, 0(3)
作者姓名:白亦真  吕宪义  金曾孙  邹广田
作者单位:吉林大学原子与分子物理研究所,吉林大学原子与分子物理研究所,吉林大学原子与分子物理研究所,吉林大学原子与分子物理研究所 超硬材料国家重点实验室,长春,超硬材料国家重点实验室,长春,超硬材料国家重点实验室,长春,超硬材料国家重点实验室,长春
摘    要:
本文设计了用直流电弧等离子体喷射法快速生长金刚石薄膜的装置,并对其工作性能进行了研究。

关 键 词:快速沉积  金刚石薄膜  沉积装置

High-rate Diamond Film Deposition Apparatus and Its Working-property
Bai Yizhen,Lu Xianyi,Jin Zengsun and Zou Guangtian. High-rate Diamond Film Deposition Apparatus and Its Working-property[J]. Journal of Jilin University: Sci Ed, 1992, 0(3)
Authors:Bai Yizhen  Lu Xianyi  Jin Zengsun  Zou Guangtian
Abstract:
The present paper covers the apparatus for high-rate diamond film deposition by DC arc plasma jet method and its working-property.
Keywords:high-rate deposition  diamond film  deposition apparatus
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