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4H—SiC MESFET表面陷阱效应研究
引用本文:陈壮梁,罗小蓉,邓小川,周春华,黄何.4H—SiC MESFET表面陷阱效应研究[J].实验科学与技术,2006,4(B12):43-45,56.
作者姓名:陈壮梁  罗小蓉  邓小川  周春华  黄何
作者单位:电子科技大学,成都610054
基金项目:国家预研基金资助项目.
摘    要:分析了表面陷阱对4H—SiC MESFET直流和瞬态特性的各种影响。在直流特性上,由表面陷阱引入的附加耗尽层使得饱和电流降低和夹断电压偏移;在瞬态特性上,引起栅延迟以及跨导和输出电导的频散。表面陷阱能级和密度的变化也会影响表面陷阱效应。该文还对栅延迟现象进行了分析,并给出了电子浓度分布随时间的变化。

关 键 词:4H—SiC  MESFET  表面陷阱  直流特性  瞬态特性
文章编号:1672-4550(2006)07-0043-04
收稿时间:2006-07-19

Study of the Surface Trap Effect in 4H- SiC MESFET
CHEN Zhuang-liang, LUO Xiao-rong, DENG Xiao-chuan , ZHOU Chun-hua, HE Huang.Study of the Surface Trap Effect in 4H- SiC MESFET[J].Experiment Science & Technology,2006,4(B12):43-45,56.
Authors:CHEN Zhuang-liang  LUO Xiao-rong  DENG Xiao-chuan  ZHOU Chun-hua  HE Huang
Abstract:
Keywords:4H - SiC MESFET  surface - trap  DC charactoristics  transient characteristics
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