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| 新型人工电磁介质与负折射国际研讨会 | |
| 作者姓名： | 何赛灵 |
| 作者单位： | 浙江大学光通信交叉研究中心,杭州310027 |
| 摘 要： | 新型人工电磁介质和负折射国际研讨会（International Workshop on Meta—materials and Negative Refraction）于2005年8月27-29日在浙江大学召开。会议共有120余名代表参加，包括来自美国、英国、瑞典、俄罗斯、芬兰、日本、新加波等国家以及中国香港和台湾地区的代表。研讨会共有特邀报告4个，专题讲座4个，专题报告26个，以及17个张贴报告。主要内容如下： |
| 关 键 词： | 国际研讨会 人工电磁介质 负折射 浙江大学 台湾地区 |
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