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Al2O3衬底上低温生长GaN薄膜的一种新方法
引用本文:窦宝锋,顾彪,史庆军.Al2O3衬底上低温生长GaN薄膜的一种新方法[J].佳木斯大学学报,2002,20(1):5-8.
作者姓名:窦宝锋  顾彪  史庆军
作者单位:大连理工大学电气工程与应用电子技术系 辽宁大连116023 (窦宝锋,顾彪),佳木斯大学信息电子技术学院 黑龙江佳木斯154007(史庆军)
基金项目:国家自然科学基金项目 (项目号 695 760 0 3 )
摘    要:研究了 ECR- PAMOCVD在蓝宝石衬底上生长 Ga N外延层时衬底的清洗方法和缓冲层结构对于 Ga N晶体质量的影响 ,提出了新的衬底清洗方法和双缓冲层结构 .实验表明这种方法能够提供一个很好的生长基底 ,可以有效地改善 Ga N外延层的晶体质量

关 键 词:ECR-PAMOCVD  衬底清洗方法  双缓冲层
文章编号:1008-1402(2002)01-0005-04
修稿时间:2001年10月25

A NEW METHOD OF GROWING GaN FILMS ON THE Al2O3 SUBSTRATE AT LOW TEMPERATURE
DOU Bao-feng ,GU Biao ,SHI Qing-jun.A NEW METHOD OF GROWING GaN FILMS ON THE Al2O3 SUBSTRATE AT LOW TEMPERATURE[J].Journal of Jiamusi University(Natural Science Edition),2002,20(1):5-8.
Authors:DOU Bao-feng  GU Biao  SHI Qing-jun
Institution:DOU Bao-feng 1,GU Biao 1,SHI Qing-jun 2
Abstract:The influence of cleaning method of substrate, when growing GaN epitaxy on sapphire by ECR-PAMOCVD, and buffer layer structure on GaN crystal quality is studied. A new cleaning method of substrate and double buffer layers are proposed. The results show that the method can lead to a good growing template and improve the crystal quality of GaN epitaxy effectively.
Keywords:ECR-PAMOCVD  cleaning method of substrate  double buffer structure
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