带有p型岛的超低导通电阻绝缘体上硅器件新结构 |
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引用本文: | 代红丽,赵红东,王洛欣,石艳梅,李明吉,李宇海.带有p型岛的超低导通电阻绝缘体上硅器件新结构[J].天津大学学报(自然科学与工程技术版),2019(3). |
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作者姓名: | 代红丽 赵红东 王洛欣 石艳梅 李明吉 李宇海 |
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作者单位: | 河北工业大学电子信息工程学院;天津理工大学电气电子工程学院;光电信息控制和安全技术重点实验室 |
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摘 要: | 为了减小绝缘体上硅(SOI)器件的比导通电阻,提高器件的击穿电压,提出一种带有p型岛的SOI器件新结构.该结构的特征如下:首先,漂移区周围采用U型栅结构,在开启状态下,U型栅侧壁形成高密度电子积累层,提供了一个从源极到漏极低电阻电流路径,实现了超低比导通电阻;其次,在漂移区引入的氧化槽折叠了漂移区长度,大大提高了击穿电压;最后,在氧化槽中引入一个p型岛,该高掺杂p型岛使漂移区电场得到重新分配,提高了击穿电压,且p型岛的加入增大了漂移区浓度,使器件比导通电阻进一步降低.结果表明:在最高优值条件下,器件尺寸相同时,相比传统SOI结构,新结构的击穿电压提高了140%,比导通电阻降低了51.9%.
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