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| 溅射功率对GdTbFeCo薄膜磁光性能的影响 | |
| 作者姓名： | 郭继花 黄致新 崔增丽 杨磊 邵剑波 |
| 作者单位： | 华中师范大学物理科学与技术学院,武汉,430079 |
| 基金项目： | 国家自然科学基金资助项目 |
| 摘 要： | 采用射频磁控溅射法在玻璃基片上成功制得了GdTbFeCo非晶垂直磁化膜,研究了溅射功率对GdTbFeCo薄膜磁光性能的影响.测量结果表明:基片与靶间距为72 mm溅射功率为75 W,溅射气压为0.5 Pa,薄膜厚度为120 12m时,GdTbFeCo薄膜垂直方向矫顾力达到5966 Oe,克尔角为0.413 °. |
| 关 键 词： | 射频磁控溅射 磁光性能 溅射功率 |
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