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| 化学机械抛光多区压力系统解耦逆控制研究 | |
| 引用本文： | 门延武,路新春,张辉,周凯,叶佩青,沈攀. 化学机械抛光多区压力系统解耦逆控制研究[J]. 华中科技大学学报(自然科学版), 2012, 40(Z2) |
| 作者姓名： | 门延武 路新春 张辉 周凯 叶佩青 沈攀 |
| 作者单位： | 清华大学摩擦学国家重点实验室,北京,100084 |
| 基金项目： | 国家科技重大专项资助项目，摩擦学国家重点实验室基金资助项目 |
| 摘 要： | 针对化学机械抛光(CMP)中多区压力腔室之间的耦合、时变和非线性现象,提出一种基于模型的离线辨识十神经元在线解耦十逆控制的策略.该策略通过神经元在线实时动态解耦各区压力,离线辨识对象模型并将模型带人逆控制器中,使得系统具有快速响应能力且鲁棒性好.实验结果表明该方案具有响应速度快、超调量少、稳定性好等特点. |
| 关 键 词： | 化学机械抛光 神经元 解耦控制 逆控制 多区压力系统 |
Study on decoupling inverse control of CMP multi-zones pressure system |
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| Abstract: | |
| Keywords: | |
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