高磁场中的化学及其未来 |
| |
引用本文: | Koga,Y 蔡黎虹.高磁场中的化学及其未来[J].世界科学,1992(12):10-12,14. |
| |
作者姓名: | Koga Y 蔡黎虹 |
| |
摘 要: | 在超导材料开发的同时研究人员一直在注意提高超导磁体的质量。1987年卡尔斯鲁厄大会公布的一种含有Ti/Nb_3Sn基合金的磁体,其最高记录的磁通密度迄今为20.15泰斯拉(T)。然而高磁场的产生需要低温条件。一种新近发现(1986)的氧化物基高温超导体虽然达到高临界温度(Tc),但仍应该作进一步开发,使之成为产生高磁场的超导磁体。对超高磁场的研究也是对极端领域如超高温、超低温、超高压和超高真空领域的研究。借助新科技考察各种材料(金属、半导体、活体、大分子、液晶等)和原子、分子、原子团以及离子,可望导致新材料的发现和/或新现象的开发。在高磁场中,物质可能显示出独特
|
关 键 词: | 磁场 超导体 化学 |
本文献已被 CNKI 维普 等数据库收录! |
|