| 常压介质阻挡放电非平衡等离子体渗氮 |
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| 引用本文： | 秦艳严立,朱新河. 常压介质阻挡放电非平衡等离子体渗氮[J]. 大连海事大学学报(自然科学版), 2001, 27(3): 92-95 |
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| 作者姓名： | 秦艳严立 朱新河 |
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| 作者单位： | 大连海事大学船机修造及金属工艺研究所;大连海事大学船机修造及金属工艺研究所;大连海事大学船机修造及金属工艺研究所 |
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| 基金项目： | 高等学校博士学科点专项科研项目,9701 5102, |
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| 摘 要： | 利用介质阻挡放电．在自行研制的设备上进行常压非平衡等离子体渗氮．研究表明．该新工艺不仅在很短时间内在试样表面得到很深的渗层和白亮层．而且省去了真空放电下必须的真空设备．整个工艺过程操作简便。是一种很有发展前景的新工艺．此外,还分析了渗层深度及硬度随放电间隙不同的变化规律．
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| 关 键 词： | 金属热处理 电介质阻挡放电 常压 等离子体渗氮 |
| 文章编号： | 1006-7736(2001)03-0092-04 |
| 修稿时间： | 2001-01-08 |
Atmospheric pressure non-equilibrium plasma nitriding using dielectric barrier discharge |
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