光敏剂与紫外正性抗蚀剂合成工艺的改进

抗蚀剂是由酚醛树脂成膜剂、重氮萘醌光敏剂、添加剂和溶剂四大类组成,为提高集成电路等器件制作的生产量,就要缩短曝光时间,增加抗蚀剂的感光灵敏度,光敏剂的结构及加入量将影响胶的感光性、曝光量、操作宽容度和耐热性等．本文对正性抗蚀剂合成过程中加入光敏剂的效果作一报道,以设计出一条提高其酯化度的工艺路线。