| ZnO薄膜的分形生长以及退火对ZnO薄膜结构和性质的影响 |
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| 引用本文： | 闫益,诸葛兰剑,吴雪梅. ZnO薄膜的分形生长以及退火对ZnO薄膜结构和性质的影响[J]. 苏州大学学报(医学版), 2007, 23(4): 62-66 |
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| 作者姓名： | 闫益 诸葛兰剑 吴雪梅 |
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| 作者单位： | 苏州大学物理科学与技术学院,江苏省薄膜材料重点实验室,江苏苏州215006 |
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| 摘 要： | 通过射频磁控溅射的方法，分别在NaCl和Si基片上制备厚度约为10nm的ZnO薄膜，通过SEM、TEM等测试手段分析了薄膜的表面状况，结果显示，在两种基片上沉积的薄膜都呈现分形生长的形貌．通过对两种基片上生长的薄膜进行比较，分别计算了这两种薄膜的分形维数．在Al2O3上制备了厚度约为300nm的ZnO薄膜，通过在不同温度下对样品进行退火处理，并利用XRD、PL测试手段研究了退火处理对薄膜结构和光致发光性质的影响．结果表明，随着退火温度升高，薄膜的晶体结构逐渐变好，发光峰位也随着退火温度发生偏移．
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| 关 键 词： | ZnO薄膜 分形 分形维数 " 数金子" 计算法 |
| 文章编号： | 1000-2073（2007）04-0062-05 |
| 收稿时间： | 2006-07-26 |
| 修稿时间： | 2006-07-26 |
Fractal growth of ZnO film and the effect of the annealing process on the structure and the PL properties |
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| Yan Yi,Zhuge Lanjian,Wu Xuemei. Fractal growth of ZnO film and the effect of the annealing process on the structure and the PL properties[J]. Journal of Suzhou University(Natural Science), 2007, 23(4): 62-66 |
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| Authors: | Yan Yi Zhuge Lanjian Wu Xuemei |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | PL |
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