|
|||||
|
|
| Ni3［Ge2O5］(OH)4纳米盘的制备与表征 | |
| 引用本文： | 马国华,刘永刚,彭同江,吴卫东,姬广富. Ni3［Ge2O5］(OH)4纳米盘的制备与表征[J]. 四川大学学报(自然科学版), 2013, 50(3): 590-594 |
| 作者姓名： | 马国华 刘永刚 彭同江 吴卫东 姬广富 |
| 作者单位： | 1. 中国工程物理研究院激光聚变中心,绵阳621002;西南科技大学分析测试中心,绵阳621010 2. 西南科技大学分析测试中心,绵阳,621010 3. 中国工程物理研究院激光聚变中心,绵阳,621002 4. 中国工程物理研究院流体物理研究所,绵阳,621900 |
| 基金项目： | 国家自然科学基金（51002126） |
| 摘 要： | 基于改变阳离子半径对蛇纹石结构层的可调性,以氧化锗和氢氧化镍为原料,通过水热法合成了Ni3[Ge2O5](OH)4纳米盘.采用X-射线衍射仪(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、高分辨透射电子显微镜(HRTEM)和红外光谱仪(FTIR)等手段对不同反应时间合成样品的物相、形貌和结构进行了分析表征.结构分析表明,合成样品为纤蛇纹石结构,其晶胞参数为a=5.300,b=9.199,c=14.631,α=γ=90°,β=93.51°.形貌分析表明,样品为六边形纳米盘状,其粒径约为0.2～1μm.分析认为,样品生长过程与蛇纹石层生长机理相一致。 |
| 关 键 词： | 纳米盘 纤蛇纹石 水热合成 Ni3[Ge2O5](OH)4 |
| 收稿时间： | 2012-03-23 |
Preparation and characterizion of the Ni3[Ge2O5](OH)4 nanodisk |
|
| MA Guo-Hua , LIU Yong-Gang , PENG Tong-Jiang , WU Wei-Dong , JI Guang-Fu. Preparation and characterizion of the Ni3[Ge2O5](OH)4 nanodisk[J]. Journal of Sichuan University (Natural Science Edition), 2013, 50(3): 590-594 | |
| Authors: | MA Guo-Hua LIU Yong-Gang PENG Tong-Jiang WU Wei-Dong JI Guang-Fu |
| Affiliation: | Research Center of Laser Fusion, China Academy of Engineering Physics;Analytical and Testing Center, Southwest University of Science and Technology;Analytical and Testing Center, Southwest University of Science and Technology;Research Center of Laser Fusion, China Academy of Engineering Physics;Institute of Fluid Physics,China Academy of Engineering Physics |
| Abstract: | |
| Keywords: | |
| 本文献已被 CNKI 万方数据 等数据库收录！ | |
| 点击此处可从《四川大学学报(自然科学版)》浏览原始摘要信息 | |
| 点击此处可从《四川大学学报(自然科学版)》下载全文 | |