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| TMAH硅湿法刻蚀剂中异丙醇与氧化剂的协同作用 | |
| 引用本文： | 陈东,刘诗斌,梁晋涛.TMAH硅湿法刻蚀剂中异丙醇与氧化剂的协同作用[J].广西师范大学学报(自然科学版),2014(2). |
| 作者姓名： | 陈东 刘诗斌 梁晋涛 |
| 作者单位： | 西北工业大学电子信息学院;西安邮电大学电子工程学院;桂林电子科技大学环境与生命科学学院; |
| 基金项目： | 国家自然科学基金资助项目(60874101) |
| 摘 要： | 四甲基氢氧化铵(TMAH)是一种在微机电系统加工中常用的硅湿法刻蚀剂。在对含有铝结构表面的硅器件进行湿法刻蚀时,需要在TMAH溶液中添加一定量的硅酸和氧化剂,以保护器件表面的金属铝,但这会降低硅表面的光洁度。本文在含硅酸的TMAH溶液中同时添加过硫酸铵和异丙醇2种物质,研究其对TMAH刻蚀作用的影响。研究结果表明,2种物质的协同作用能够显著提高硅刻蚀表面的光洁度。 |
| 关 键 词： | 四甲基氢氧化铵 硅湿法刻蚀 过硫酸铵 异丙醇 |
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