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Ta2O5对掺杂的TiO2压敏陶瓷电性能的影响
引用本文:孟凡明,孙兆奇.Ta2O5对掺杂的TiO2压敏陶瓷电性能的影响[J].合肥工业大学学报(自然科学版),2005,28(1):53-56.
作者姓名:孟凡明  孙兆奇
作者单位:安徽大学,物理与材料科学学院,安徽,合肥,230039;安徽大学,信息材料与器件重点实验室,安徽,合肥,230039
基金项目:国家自然科学基金资助项目(59972001);安徽省自然科学基金资助项目(01044901)和安徽省教育厅科研基金资助项目
摘    要:基于典型的陶瓷工艺制备试样,通过对样品的压敏特性、电容频谱特性的测定及势垒高度()b的计算,研究了Ta2O5对掺杂(Ba,Bi,Si,Ta)的TiO2压敏陶瓷的压敏特性及电容特性的影响.结果表明,随着Ta2O5的摩尔分数的增加,样品的压敏电压、非线性系数和视在介电常数呈现一定的变化规律,掺入摩尔分数为0.1%的Ta2O5样品显示出最低的压敏电压和最高的视在介电常数,并从理论上进行了分析.综合考虑材料的各种电性能参数,尤其是压敏电压低压化的需求,Ta2O5掺杂摩尔分数在0.1%左右为宜.

关 键 词:TiO2压敏陶瓷  压敏电压  非线性系数  电容量
文章编号:1003-5060(2005)01-0053-04
修稿时间:2004年3月22日

Influence of Ta2O5 on electrical properties of doped TiO2 varistor ceramics
Abstract:
Keywords:
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