首页 | 本学科首页   官方微博 | 高级检索  
     检索      

用薄型金-硅面垒探测器测定硅的表面复合速度
引用本文:唐璞山 ,邵丙铣 ,赵富贤.用薄型金-硅面垒探测器测定硅的表面复合速度[J].复旦学报(自然科学版),1964(1).
作者姓名:唐璞山  邵丙铣  赵富贤
摘    要:§1.引言表面复合速度是研究半导体非平衡载流子性质的一个重要参量.借助于表面复合速度的测量可以对半导体表面的基本性质有所了解.而且表面复合速度还直接影响半导体内非平衡载流子的复合,从而影响少数载流子的有效寿命.而半导体两极管的反向饱和电流,击穿电压,三极管的电流放大系数以及噪声水平亦都与表面复合速度有关.测出经各种表面处理后的表面复合速度,并找出减小表面复合速度的途径,对改善器件的性能是很重要的工作.

本文献已被 CNKI 等数据库收录!
设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司  京ICP备09084417号