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| 含铝络合离子在铜电极上的电沉积 | |
| 作者姓名： | 阚洪敏 祝珊珊 张宁 王晓阳 |
| 作者单位： | 沈阳大学辽宁省先进材料制备技术重点实验室,辽宁沈阳,110044 |
| 基金项目： | 国家自然科学基金资助项目，辽宁省教育厅基金项目 |
| 摘 要： | 采用循环伏安法研究了含铝络合离子在铜电极上的电沉积,以探明含铝络合离子在铜电极上的电极过程及表面合金化.循环伏安结果表明,含铝络合离子在铜电极上还原时,铝络合离子首先被还原为金属铝,接着生成的金属铝与铜基体形成铜铝合金.电沉积实验后采用扫描电子显微镜、能谱仪和X射线物相分析仪对样品进行形貌表征及成分分析,扫描电镜及样品侧面线扫描照片结果表明,含铝络合离子在铜电极上析出时与铜基体形成合金,具有明显的过渡层.X射线物相分析结果表明合金为AlCu和Al2Cu,这与铝在铜电极上的循环伏安曲线相吻合,即生成两种新的产物铜铝合金. |
| 关 键 词： | 电沉积 循环伏安 电极过程 合金化 铝络合离子 |
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