| CVD金刚石薄膜中内应力张／压性质预测的研究 |
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| 引用本文： | 方亮 王万录. CVD金刚石薄膜中内应力张／压性质预测的研究[J]. 重庆大学学报(自然科学版), 1999, 22(3): 112-116 |
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| 作者姓名： | 方亮 王万录 |
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| 作者单位： | 重庆大学理学院，重庆大学材料与工程学院 |
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| 摘 要： | 对大量实验测量出的甲烷浓度和衬底温度分别在单因素变化时，金刚石薄膜内应力的变化规律进行了归纳。在此基础上，利用材料科学与相图的思想，对任意给定的甲烷浓度和衬底温度条件下制备的金刚石膜中内应力处于张应力还是压应力的情况进行了分析，绘制出金刚石膜的“内应力状态图”。结果表明：利用“内应力状态图”可以预测内应力的张／压性质，预测分析结果与实验结果一致。
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| 关 键 词： | 金刚石 薄膜 内应力 张／压性质 CVD 预测 |
Study On The Prediction Of Tensile/Compressive Internal Stress In CVD Diamond Films |
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| FANG Liang,WANG Wan lu,WANG Jian,DING Peidao,LIAO Ke jun. Study On The Prediction Of Tensile/Compressive Internal Stress In CVD Diamond Films[J]. Journal of Chongqing University(Natural Science Edition), 1999, 22(3): 112-116 |
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| Authors: | FANG Liang WANG Wan lu WANG Jian DING Peidao LIAO Ke jun |
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| Affiliation: | FANG Liang 1,2,WANG Wan lu 1,WANG Jian 2,DING Peidao 2,LIAO Ke jun 1 |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | diamond Films chemical vapour deposition internal stress |
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