| 电子束蒸发沉积金属-TiO_2薄膜的结构和光学性质 |
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| 引用本文： | 周兵,江晓红,沈瑞琪,陆路德,Rogachev A.V..电子束蒸发沉积金属-TiO_2薄膜的结构和光学性质[J].南京理工大学学报(自然科学版),2010,34(4). |
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| 作者姓名： | 周兵 江晓红 沈瑞琪 陆路德 Rogachev A.V. |
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| 作者单位： | 1. 南京理工大学,化工学院,江苏,南京,210094
2. 白俄罗斯戈梅利国立大学,物理系,白俄罗斯,戈梅利,246653 |
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| 基金项目： | 科技部中白政府间科技合作项目，南京市科技发展计划项目 |
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| 摘 要： | 采用电子束蒸发法在玻璃基底上制备了TiO2薄膜及Fe、Cu、Al掺杂TiO2膜,通过XRD、Raman光谱、XPS及AFM等测试手段研究了TiO2膜及金属-TiO2掺杂膜的结构、组成和形貌。金属掺杂量为1%,退火温度为773 K时,沉积得到的薄膜均为锐钛矿晶体结构的TiO2,掺杂金属的种类对薄膜的晶粒尺寸有一定的影响。采用紫外-可见分光光度计测试薄膜的吸收光谱,掺杂后TiO2的吸收带边发生改变,薄膜对可见光的吸收明显加强。光催化降解甲基橙实验表明,制备的TiO2薄膜及其金属掺杂膜具有一定的光催化活性,且Fe-TiO2膜的降解效率较高。
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| 关 键 词： | TiO2薄膜 锐钛矿 电子束蒸发 金属掺杂 禁带宽度 光催化 |
Structure and Optical Properties of Metal Doped TiO2 Thin Films Deposited by Electron Beam Evaporation |
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| ZHOU Bing,JIANG Xiao-hong,SHEN Rui-qi,LU Lu-de,Rogachev A.V..Structure and Optical Properties of Metal Doped TiO2 Thin Films Deposited by Electron Beam Evaporation[J].Journal of Nanjing University of Science and Technology(Nature Science),2010,34(4). |
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| Authors: | ZHOU Bing JIANG Xiao-hong SHEN Rui-qi LU Lu-de Rogachev AV |
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