| 用于双极型工艺认证的微电子测试图形研究 |
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| 引用本文： | 桂力敏,范焕章,张蓓榕,汪宗禹,贺德洪,汤世豪. 用于双极型工艺认证的微电子测试图形研究[J]. 上海师范大学学报(自然科学版), 1988, 0(3) |
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| 作者姓名： | 桂力敏 范焕章 张蓓榕 汪宗禹 贺德洪 汤世豪 |
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| 作者单位： | 华东师范大学电子科学技术系，华东师范大学电子科学技术系，华东师范大学电子科学技术系，华东师范大学电子科学技术系，华东师范大学电子科学技术系，华东师范大学电子科学技术系 |
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| 摘 要： | ![]()
本文提出一种用于科学地评价双极型半导体器件(npn或pnp晶体管)工艺水平的微电子测试图形。该测试图形由物理分析及工艺参数测试结构、器件参数测试结构等部分组成,测试结构的探脚采用阵列式引出,适合2×N探卡进行探测。多数测试结构能用我们研制的微电子测试图形参数自动测试仪进行及数据处理。文中还给出利用本测试图形对工厂生产线工艺水平进行评估的实例。
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| 关 键 词： | 半导体器件 双极型工艺 测试图形 |
Investigation of Microelectronic Test Pattern for Evaluating Bipolar Process |
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| GUI LIMIN FAN HUANZHANG ZHANG BEIYONG WANG ZONGYU HE DEHONG TANG SHIHAO. Investigation of Microelectronic Test Pattern for Evaluating Bipolar Process[J]. Journal of Shanghai Normal University(Natural Sciences), 1988, 0(3) |
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| Authors: | GUI LIMIN FAN HUANZHANG ZHANG BEIYONG WANG ZONGYU HE DEHONG TANG SHIHAO |
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| Affiliation: | Department of Electronic Science and Technology |
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| Abstract: | ![]()
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| Keywords: | semiconductor device bipolar process test pattern |
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