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退火工艺对铁基非晶薄带压应力阻抗效应的影响
引用本文:蒋达国,李厚德,朱正吼. 退火工艺对铁基非晶薄带压应力阻抗效应的影响[J]. 江西师范大学学报(自然科学版), 2007, 31(6): 639-642
作者姓名:蒋达国  李厚德  朱正吼
作者单位:井冈山大学,数理学院,江西,吉安,343009;南昌大学,材料科学与工程学院,江西,南昌,330031;江西省七0四电视台,江西,井冈山,343600;南昌大学,材料科学与工程学院,江西,南昌,330031
基金项目:国家自然科学基金(10576014)资助项目
摘    要:采用单辊法制备了宽4.5 mm厚25μm的Fe73.5Cu1Nb3Si3.5B9非晶薄带,且对薄带进行了退火处理和金相分析,并研究了退火工艺对非晶薄带SI效应的影响.结果表明,非晶薄带经300℃退火后开始出现晶化现象;与淬态非晶薄带相比,退火可以增强非晶薄带的SI效应,经300℃×2 h退火后薄带的SI效应最大,当测试频率为50 MHz,测试压应力为3.6 MPa时,淬态非晶薄带的SI效应为5.63%,而经300℃×2 h退火后薄带的SI效应可达7.83%.

关 键 词:非晶薄带  应力阻抗效应  磁致伸缩  退火
文章编号:1000-5862(2007)06-0639-04
收稿时间:2007-03-11
修稿时间:2007-03-11

Influence of Annealing Craft on the Stress Impedance Effect of Fe-Based Amorphous Alloy Ribbons
JIANG Da-guo,LI Hou-de,ZHU Zheng-hou. Influence of Annealing Craft on the Stress Impedance Effect of Fe-Based Amorphous Alloy Ribbons[J]. Journal of Jiangxi Normal University (Natural Sciences Edition), 2007, 31(6): 639-642
Authors:JIANG Da-guo  LI Hou-de  ZHU Zheng-hou
Abstract:
Keywords:amorphous ribbons  stress impedance effect  magnetostriction  annealing.
本文献已被 CNKI 万方数据 等数据库收录!
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