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金属离子注入聚合物纳米结构形成和导电机理
引用本文:吴瑜光,张通和,张荟星,张孝吉,周固.金属离子注入聚合物纳米结构形成和导电机理[J].中国科学(E辑),2001,31(5):399-404.
作者姓名:吴瑜光  张通和  张荟星  张孝吉  周固
作者单位:1. 低能核物理研究所北京市辐射中心,
2. 北京师范大学分析测试中心,
基金项目:国家自然科学基金 (批准号 :5 96 710 5 1),国家“八六三”计划资助项目
摘    要:采用MEVVA离子注入机引出的Ag, Cu, Ti和Si离子注入聚酯薄膜, 注入后的聚酯膜电阻率大大降低了. 用透射电子显微镜观察注入聚酯膜的横截面,TEM照片表明,在注入层中形成了纳米金属颗粒和富集的碳颗粒. 用X射线衍射测量了注入层中结构的变化和新相的形成,进而讨论了金属离子注入聚酯膜的导电机理.

关 键 词:电阻率  纳米颗粒  导电机理  金属离子注入
收稿时间:2000-06-06
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