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掺硼金刚石膜电极电化学特性的研究
引用本文:祁文涛,彭鸿雁,姜宏伟. 掺硼金刚石膜电极电化学特性的研究[J]. 牡丹江师范学院学报(自然科学版), 2010, 0(2): 19-21
作者姓名:祁文涛  彭鸿雁  姜宏伟
作者单位:牡丹江师范学院新型碳基功能与超硬材料省级重点实验室,黑龙江牡丹江,157012
基金项目:城市水资源与水环境国家重点实验室开放基金资助课题,黑龙江省科技攻关项目,牡丹江市科技攻关项目,黑龙江省自然科学基金项目,黑龙江省教育厅项目,牡丹江师范学院研究生学术创新项目 
摘    要:采用直流热阴极CVD法制备掺硼金刚石膜.利用扫描电子显微镜(SEM)和X射线衍射仪(XRD)对样品进行了表征,利用电化学循环伏安法测试了掺硼金刚石膜电极的电化学特性.结果表明,该方法制备的掺硼金刚石膜电极有宽的电势窗口、很高的析氧电位和良好的稳定性.

关 键 词:掺硼金刚石膜电极  电化学特性  循环伏安法

Electrochemical Properties of Doron Doped Diamond Films Electrode
QI Wen-tao,PENG Hong-yan,JIANG Hong-wei. Electrochemical Properties of Doron Doped Diamond Films Electrode[J]. Journal of Mudanjiang Teachers' College(Natural Sciences Edition), 2010, 0(2): 19-21
Authors:QI Wen-tao  PENG Hong-yan  JIANG Hong-wei
Abstract:
Keywords:
本文献已被 CNKI 维普 万方数据 等数据库收录!
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