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| 典型光学加工中边缘效应仿真分析 | |
| 作者姓名： | 王谭 程灏波 冯云鹏 董志超 |
| 作者单位： | 北京理工大学光电学院,北京,100081 |
| 基金项目： | 国家自然科学基金资助项目(60978043); 国家“八六三”计划项目(2009AA04Z115); 北京市自然科学基金资助项目(4092036) |
| 摘 要： | 为分析光学加工中边缘效应对元件最终面形精度的影响,建立了数控小磨头行星式抛光去除函数模型和射流式工具加工的去除函数模型.通过对抛光过程中磨料载体的微观状态的研究,探讨并仿真了两种抛光方式在不同区域抛光速度分布、抛光压力分布和抛光中Preston系数的变化.通过对比分析这些参数的变化对材料去除影响,表明光学加工过程中磨料载体中分子间的作用力对边缘效应产生的影响不可忽略. |
| 关 键 词： | 去除函数 边缘效应 射流抛光 |
| 收稿时间： | 2010-11-11 |
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