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端点附壁自避行走的计算机模拟
引用本文:吴大诚,杜鹏,康健.端点附壁自避行走的计算机模拟[J].科学通报,1996,41(16):1530-1532.
作者姓名:吴大诚  杜鹏  康健
作者单位:四川联合大学轻工纺织学院,四川联合大学轻工纺织学院,四川联合大学轻工纺织学院 成都 610065,成都 610065,成都 610065
摘    要:自避行走(self-avoiding walk,简称SAW)是一种重要的模型,在数学上与简单随机行走有极大不同。由于已行走的路径不能再次被占据,SAW不再是一种Markov链。因此,一般来说,涉及到SAW的问题往往很难得出严格的解析表达式。然而,SAW模型在物理学、化学、生物学中有广泛的应用。例如在材料科学和生命科学中十分重要的高分子就可以用SAW作为一种基本模型。当一条高分子链的一个端基吸附在某一固体壁上,就可以用端点附壁的随机行走来表示。若高分子链采用SAW作为模型,其行为的预示目前仅限于采用计算机“实验”的方法。本工作在新的计算机“实验”数据基础上,提出了消除奇偶效应的方法,得到了一些新结果。

关 键 词:自避行走  蒙特卡罗模拟  高分子链  计算机模拟
收稿时间:1995-06-26
修稿时间:1996-01-19
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