端点附壁自避行走的计算机模拟 |
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引用本文: | 吴大诚,杜鹏,康健.端点附壁自避行走的计算机模拟[J].科学通报,1996,41(16):1530-1532. |
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作者姓名: | 吴大诚 杜鹏 康健 |
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作者单位: | 四川联合大学轻工纺织学院,四川联合大学轻工纺织学院,四川联合大学轻工纺织学院 成都 610065,成都 610065,成都 610065 |
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摘 要: | 自避行走(self-avoiding walk,简称SAW)是一种重要的模型,在数学上与简单随机行走有极大不同。由于已行走的路径不能再次被占据,SAW不再是一种Markov链。因此,一般来说,涉及到SAW的问题往往很难得出严格的解析表达式。然而,SAW模型在物理学、化学、生物学中有广泛的应用。例如在材料科学和生命科学中十分重要的高分子就可以用SAW作为一种基本模型。当一条高分子链的一个端基吸附在某一固体壁上,就可以用端点附壁的随机行走来表示。若高分子链采用SAW作为模型,其行为的预示目前仅限于采用计算机“实验”的方法。本工作在新的计算机“实验”数据基础上,提出了消除奇偶效应的方法,得到了一些新结果。
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关 键 词: | 自避行走 蒙特卡罗模拟 高分子链 计算机模拟 |
收稿时间: | 1995-06-26 |
修稿时间: | 1996-01-19 |
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