|
|||||
|
|
| 微波激励氙VUV光源直接光CVD设备及其应用 | |
| 引用本文： | 杜开瑛,周心明.微波激励氙VUV光源直接光CVD设备及其应用[J].四川大学学报(自然科学版),1993,31(1):130-132. |
| 作者姓名： | 杜开瑛 周心明 |
| 作者单位： | 四川大学物理系 (杜开瑛)，四川大学材料科学系(周心明) |
| 摘 要： | 新发展的光CVD(化学汽相淀积)材料,由于具有无辐射损伤,能进行低温、大面积生长,衬底材料选择自由度大,可淀积生长单层的和多层的各种绝缘膜、半导体膜、金属膜,以及能形成非晶、微晶、混晶等各种晶相材料等一系列优势,颇为引人注目,在材料科学领域中占有重要的位置。引用光的能量实现膜材料的光CVD生长,其基本条件是光源发射光子的能量能被反应气体有效吸收,并使其充分分解。分解后的产物通过与衬底表面的相互作用,其中一部分便沉积 |
| 关 键 词： | 氙 VUV光 化学汽相淀积 |
| 本文献已被 CNKI 维普 等数据库收录！ | |