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热壁MOCVDHg0.8Cd0.2Te制备和特性
引用本文:丁永庆,彭瑞伍.热壁MOCVDHg0.8Cd0.2Te制备和特性[J].科技通讯(上海),1994(2):46-50.
作者姓名:丁永庆  彭瑞伍
摘    要:

关 键 词:HgCdTe  化合物半导体  热壁MOCVD法
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