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| 衬底偏压对γ-′Fe_4N薄膜磁性的影响 | |
| 引用本文： | 赵利军,王丽丽,宫杰,郑伟涛.衬底偏压对γ-′Fe_4N薄膜磁性的影响[J].吉林大学学报(理学版),2008,46(5). |
| 作者姓名： | 赵利军 王丽丽 宫杰 郑伟涛 |
| 作者单位： | 1. 长春大学,理学院,长春,130022 2. 吉林大学,材料科学与工程学院,长春,130012 |
| 摘 要： | 采用直流磁控溅射方法, 以Ar/N2(N2/(Ar N2)=10%)为放电气体, 在Si(100)单晶衬底上获得了γ′-Fe4N薄膜样品. 利用X射线衍射(XRD)和振动样品磁强计(VSM)研究衬底偏压对γ′-Fe4N薄膜样品的影响. 结果表明, 随着衬底负偏压的增大, γ′-Fe4N薄膜样品的晶胞参数减小, Fe和N的化合效率与样品的致密度提高, 表面缺陷减少, 矫顽力降低. |
| 关 键 词： | γ′-Fe4N薄膜 衬底偏压 磁性 |
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