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| 氧化铟锡TCO薄膜的制备及其结晶性能研究 | |
| 作者单位： | ;1.中南民族大学实验教学与实验室管理中心;2.中南民族大学电子信息工程学院 |
| 摘 要： | 以掺锡氧化铟陶瓷靶材作为溅射源,采用磁控溅射技术在玻璃衬底上制备了氧化铟锡(ITO)透明导电薄膜,通过X-射线衍射仪(XRD)和X-射线光电子能谱仪(XPS)测试表征,研究了生长温度对薄膜结晶性质和微结构性能的影响.结果表明:所沉积的ITO薄膜均具有体心立方的多晶结构,其生长特性和微结构性能明显受到生长温度的影响.生长温度升高时,薄膜(222)晶面的织构系数T_(C(222))和晶粒尺寸先增后减,而晶格应变和位错密度则先减后增.当生长温度为500 K时,ITO样品的织构系数T_(C(222))最高(1.5097)、晶粒尺寸最大(52.8 nm)、晶格应变最低(1.226×10~(-3))、位错密度最小(3.409×10~(14)m~(-2)),具有最佳的(222)晶面择优取向性和微结构性能. |
| 关 键 词： | 氧化铟锡 薄膜 微结构 结晶性能 |
Preparation and Crystalline Characteristics of Indium-Tin-Oxide TCO Thin Films |
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